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1.ZS系列真空感应石墨化炉
中频感应加热，真空度可达10-3Pa，采用双色集成式红外测温，最高温度可达3000℃。
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 | 2.探针台
放大倍数：112
探针座四套 分辨率：5微米
钨探针 针头直径20μm
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3.超净无尘实验室
万级超净实验室，局部百级
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 | 4.化学实验室
设备仪器配备齐全的化学实验室，拥有4个独立通风厨、真空手套箱、电加热套、高速离心机、冷藏箱、超声波清洗仪、真空（鼓风）干燥箱、超纯水机、涂膜机、水（油）浴锅、高压反应釜等等。
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5.岛津UV3600近红外、紫外可光分光光度计
测试波长范围： 185-3300nm
分辨率： 0.1nm
谱带宽度： UV/Vis: 0.1/ 0.2/ 0. 5/ 1/ 2 / 3/5/8nm 8 段转换
NIR: 0.2, 0.5, 1, 2, 3, 5, 8, 12, 20, 32nm 10 段转换
检测器：光电倍增管 / InGaAs /Cooled PbS
杂散光： 0.00008%T 以下 (220nm,NaI 10g /L 溶液 );
0.00005%T 以下 (340nm, NaNO2);
0.0005%T 以下 (1420nm, 水 );
0.005%T 以下 (2365nm, 氯仿 );
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 | 6.真空烧结炉
真空烧结炉，主要用于硬质合金、磁性材料、陶瓷以及粉末材料的真空烧结，特别适用于稀土永磁材料钕-铁-硼及其它粉状材料的真空烧结。
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7.提拉涂膜机
提拉涂膜机 用于液相制备薄膜材料而设计的精密仪器，可在不同液体中浸渍提拉生长薄膜。提拉速度、提拉高度、浸渍时间、镀膜次数（多次多层镀膜）、镀膜间隔时间均连续可调；对镀膜基质无特殊要求，运行稳定，可极大提高实验精度与实验效率。适用于硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金属等所有固体材料表面涂覆工艺。
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 | 8.电子束-热蒸发镀膜系统
用于制备金属薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等。具备4个电子束蒸发源和2个热蒸发源。
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9.紫外光刻曝光机
MDA-400M型光刻机 精度0.8微米。 科研型有掩膜接触式光刻曝光机，主要用于中小规模集成电路、分离元器件和其它各种半导体元器件制造工艺中的对准及曝光光刻。
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 | 10.匀胶机、烘胶机
用于光刻胶的旋涂及烘烤
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11.冷等静压机
冷等静压机
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 | 12.三温区高温管式炉
用于一维纳米结构的合成制备、掺杂。 三个独立可控温区，最高工作温度分别为1200度（左、右温区）和1400度（中温区）。
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13.日立荧光光谱仪F4600
日立荧光光谱仪 F4600； 用于激发谱,发射谱的测量,主要应用于材料,生物,化学等学科。 主要指标：
1.波长范围200 ~ 750nm, 和零级光。
2.扫描速度达30,000nm/min。
3.波长移动速度：60,000nm/min。
4.同等条件下最高灵敏度S/N≥150:1。
5.波长准确度 ±2.0nm。
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 | 14.快速退火炉
用于材料、器件的快速退火，最高温度可达1200度。
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15.光电测试系统
用于精密小信号的光电学测试，系统包括SR830锁相放大器、Keithely 2636源表测试仪、前置放大器、示波器等
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 | 16.光栅光谱仪
为器件光电测试提高连续可调的单色光源。包括两组150W氙灯、机械斩波器
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17.电化学工作站
电化学工作站, 可进行循环伏安法、交流阻抗法、交流伏安法、电流滴定、电位滴定等测量，工作站可以同时进行两电极、三电极及四电极的工作方式，仪器还有外部信号输入通道，可在记录电化学信号的同时记录外部输入的电压信号，例如光谱信号，快速动力学反应信号等。
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 | 8.LED综合性能测试系统
LED综合性能测试仪器，能够进行LED光强分布系统，包括
（1）LED光强角度；
（2）LED电压光强曲线；
（3）LED性能参数；
（4）LED光强随时间变化、老化测试等等。
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19.岛津UV2550分光光度计
日本岛津UV2550分光光度计。
测定波长范围 190～900nm
谱带宽度 0.1～5nm
分辨率 0.1nm
杂散光 0.0003%以下
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